| フォトポリマーの基礎と応用
著者：山岡亜夫 出版社：シーエムシー出版 ( 2003年03月 ) 価格：4,730円 ISBN13：9784882317876 | |
| ナノテクノロジーとレジスト材料
著者：山岡亜夫 出版社：シーエムシー出版 ( 2007年04月 ) 価格：3,960円 ISBN13：9784882319214 | |
| 高分子工業化学
著者：山岡亜夫 / 上田充 出版社：朝倉書店 ( 2003年12月01日頃 ) 価格：3,080円 ISBN13：9784254255836 | |
| 新しいレジスト材料とナノテクノロジ-
著者：山岡亜夫 出版社：シーエムシー出版 ( 2002年09月 ) 価格：71,500円 ISBN13：9784882313670 | |
|
| フォトポリマ-・テクノロジ-
著者：山岡亜夫 / 永松元太郎 出版社：日刊工業新聞社 ( 1988年12月01日頃 ) 価格：11,000円 ISBN13：9784526024573 | |
|
| 実用高分子レジスト材料の新展開
著者：山岡亜夫 出版社：シーエムシー出版 ( 1997年01月 ) 価格：73,645円 ISBN13：9784882311577 | |
|
| 半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
著者：山岡亜夫 出版社：リアライズ理工センター ( 1996年07月 ) 価格：36,300円 ISBN13：9784947655899 | |
| 情報記録
著者：小門宏 / 山岡亜夫 出版社：大日本図書 ( 1998年12月 ) 価格：3,960円 ISBN13：9784477009605 |