フォトマスク

フォトマスクは半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版のこと。フォトマスクの製造技術の進歩はハイテク産業の進歩につながる。本書は次世代技術をささえるフォトマスク技術について，開発に携わる著者がわかりやすく，体系的にまとめたものである。半導体関連，ディスプレイ関連，マイクロマシン関連技術に携わる技術者，研究者におすすめ。 第1章　フォトマスク技術の基本 　1.1　フォトマスクとは 　1.2　リソグラフィ技術とフォトマスク 　1.3　フォトマスクの基本 　1.4　データ準備 　1.5　パターン描画 　1.6　縮小転写と複製 　1.7　レジストプロセス 　1.8　遮光膜エッチング 　1.9　マスク洗浄 　1.10　マスク検査 　1.11　欠陥修正 　1.12　ベリクル技術 　1.13　その他の生産技術 第2章　半導体用フォトマスク 　2.1　半導体のリソグラフィ工程とフォトマスク製造工程 　2.2　マスクブランク 　2.3　フォトマスクの製作手配 　2.4　電子線描画技術 　2.5　レーザ描画技術 　2.6　電子線レジスト材料 　2.7　プロセス技術 　2.8　計測技術 　2.9　外観検査 　2.10　欠陥修正 　2.11　洗浄 　2.12　ペリクル 第3章　電子部品用マスク 　3.1　FPD用マスク 　3.2　PWB用マスク 　3.3　MEMS用マスク 第4章　先端フォトマスク技術 　4.1　半導体技術ロードマップとマスク技術 　4.2　超解像技術の概要 　4.3　OPC技術 　4.4　位相シフトマスク技術 　4.5　液浸露光世代のマスク技術 　4.6　リソグラフィとマスクにおけるDFM技術 　4.7　その他の注目技術 第5章　NGLマスク技術 　5.1　EUVリソグラフィ用マスク 　5.2　電子線リソグラフィ用マスク 　5.3　ナノインプリント用モールド 第6章　マスク産業の現状 　6.1　LSIマスク 　6.2　電子部品用マスク 　6.3　標準化（SEMIスタンダード） 第7章　リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し 　7.1　リソグラフィ技術の将来予測 　7.2　半導体マスクの今後の課題 　7.3　電子部品用マスクの今後の課題 索　引