はじめての半導体洗浄技術

超ＬＳＩはクリーンネスとの闘いである。どんなにすぐれた設計・プロセス技術を用いても、プロセス、環境面でのクリーン化技術に問題点があるようでは期待通りの超ＬＳＩは生まれない。その技術の一つに洗浄技術がある。本書では半導体洗浄技術の全貌について、技術の位置づけ、歴史、基礎的事項、具体的手法、評価法、今後の展望までを詳細に解説している。